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錦正茂實驗室磁場高溫退火爐技術指標

更新時間:2023-01-30 點擊量:784

磁場高溫退火爐

錦正茂磁場高溫退火爐 是由升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機組共同組成的一套反饋調節(jié)的加熱系統。

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產品概述:

錦正茂磁場高溫退火爐 北京錦正茂科技有限公司生產的高溫真空磁場加熱爐系統,是有升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機組共同組成的一套反饋調節(jié)的加熱系統。

該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵(干泵)先對真空腔體(樣品腔)進行粗抽,達到可以開啟分子泵的極限真空時,在開啟分子泵進行高真空的抽取,達到客戶所需的真空度。打開軟件,通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值,通過閉循環(huán)反饋調節(jié),使設備內樣品的溫度自動控制并穩(wěn)定在某一個溫度值,軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。

磁場控制:用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小,由高精度高斯計讀取實際磁場值,再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源,通過電源內部軟件處理后,直接由控制高精度恒流電源的輸出電流,從而實現用戶所需要的磁場,并實時顯示在軟件上;

溫度控制:通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值,計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器??刂破魍ㄟ^溫度傳感器(熱電偶)讀出樣品區(qū)的實際溫度值,并通過其內部設置的模糊控制PID調節(jié)輸出電流的大小,總而使溫度值穩(wěn)定在某一精度范圍內,從而實現用戶所需要的不同溫度。

真空環(huán)境:通過分子泵組獲得真空環(huán)境,由高真空全量程真空計顯示并監(jiān)控,并實時的將檢測結果傳遞給計算機。

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退火過程:在強磁場(或無磁)環(huán)境下對樣品進行加熱,加熱到一定溫度(用戶需要自己設定)并保持在該溫度,再持續(xù)加一個磁場(可隨時變化),達到用戶的目的后,關閉磁場,關閉加熱環(huán)境,冷卻到室溫。

樣品環(huán)境:高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強磁場、高真空、高溫環(huán)境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環(huán)境,滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。


適應范圍:需在高溫、高真空、強磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

主要技術指標:

※ 真空室及主要零部件材質均為304無磁不銹鋼;

※ 采用的真空獲得系統為分子泵組;真空測量為數顯全量程真空計;

※ 真空度及漏率:① 真空室極限真空度6′10-5Pa(冷態(tài));②漏率<10-11Pa.L/s,真空度隨著溫度變化,會出現波動,屬于正常情況;

※ 在室溫到900度,升溫速率優(yōu)于100K/min,高溫加熱溫度1000℃;控溫精度:±1℃;

※ 加熱時,加熱絲被封裝在石英管內,很大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染;

※ 匹配磁鐵電源:雙極性,穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h,平滑過零無斷點;

※ 匹配電磁鐵:長時間運行穩(wěn)定度<±0.5Gs;

※ 冷卻方式:水冷。

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